多晶硅表面金属杂质含量测定 酸浸取-电感耦合等离子体质谱法
Test method for measuring surface metal impurity content of polycrystalline silicon—Acid extraction-inductively coupled plasma mass spectrometry method
基础信息
标准号:GB/T 24582-2023发布日期:2023-08-06实施日期:2024-03-01全部代替标准:GB/T 24582-2009标准类别:方法中国标准分类号:H17国际标准分类号:77.040 归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会执行单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会主管部门:国家标准委
起草单位
亚洲硅业(青海)股份有限公司宜昌南玻硅材料有限公司江苏中能硅业科技发展有限公司陕西有色天宏瑞科硅材料有限责任公司新疆新特新能材料检测中心有限公司江苏鑫华半导体科技股份有限公司内蒙古通威高纯晶硅有限公司青海芯测科技有限公司新疆大全新能源股份有限公司洛阳中硅高科技有限公司有色金属技术经济研究院有限责任公司新疆协鑫新能源材料科技有限公司
起草人
尹东林郑连基蔡延国李素青刘文明薛心禄徐岩曹岩德赵培芝万首正刘海月王春明刘军魏东亮侯海波田洪先王彬于生海姜士兵邱艳梅赵娟龙申梅桂
相近标准(计划)
GB/T 37049-2018 电子级多晶硅中基体金属杂质含量的测定电感耦合等离子体质谱法YS/T 1755-2025 颗粒硅总金属杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法20250729-T-469 碳化硅晶片表面杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法GB/T 24579-2009 酸浸取原子吸收光谱法测定多晶硅表面金属污染物DB53/T 501-2013 多晶硅用三氯氢硅杂质元素含量测定 电感耦合等离子体质谱法SN/T 4240-2015 电子电气产品 金属部件表面镀镍层中铅、镉含量测定 电感耦合等离子体质谱法YS/T 1601-2023 六氯乙硅烷中杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法20240139-T-469 硅外延用三氯氢硅中杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法YS/T 1768-2025 硅多晶生产用石墨制品表面杂质含量的测定 电感耦合等离子体光谱法YS/T 980-2014 高纯三氧化二镓杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
相关服务热线: 如需《GB/T 24582-2023》相关的服务,可直接联系。 微析检测业务区域覆盖全国,专注为高分子材料、金属、半导体、汽车、医疗器械等行业提供大型仪器测试、性能测试、成分检测等服务。
热门服务