碳化硅外延层厚度的测试 红外反射法
Test method for thickness of silicon carbide epitaxial layer—Infrared reflectance method
基础信息
标准号:GB/T 42905-2023发布日期:2023-08-06实施日期:2024-03-01标准类别:方法中国标准分类号:H21国际标准分类号:77.040 归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会执行单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会主管部门:国家标准委
起草单位
安徽长飞先进半导体有限公司河北普兴电子科技股份有限公司南京国盛电子有限公司布鲁克(北京)科技有限公司有色金属技术经济研究院有限责任公司安徽芯乐半导体有限公司广东天域半导体股份有限公司浙江芯科半导体有限公司中国科学院半导体研究所
起草人
钮应喜刘敏丁雄杰吴会旺李京波张会娟雷浩东闫果果袁松赵丽霞仇光寅李素青赵跃彭铁坤
相近标准(计划)
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