表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度

基础信息

标准号：GB/T 20176-2006发布日期：2006-03-27实施日期：2006-11-01上次复审日期：2023-12-28上次复审结论：修订标准类别：方法中国标准分类号：N33国际标准分类号：71.040.40 归口单位：全国表面化学分析标准化技术委员会执行单位：全国表面化学分析标准化技术委员会主管部门：中国科学院

采标情况

本标准等同采用ISO国际标准：ISO 14237:2000。采标中文名称:表面化学分析二次离子质谱用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度。

起草单位

清华大学电子工程系

起草人

查良镇陈旭黄天斌刘林黄雁华王光普

相近标准(计划)

GB/T 20176-2025 表面化学分析二次离子质谱用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度SJ/T 11493-2015 硅衬底中氮浓度的二次离子质谱测量方法GB/T 40109-2021 表面化学分析 二次离子质谱 硅中硼深度剖析方法SJ/T 11498-2015 重掺硅衬底中氧浓度的二次离子质谱测量方法GB/T 32495-2016 表面化学分析二次离子质谱硅中砷的深度剖析方法20253640-T-491 表面化学分析 二次离子质谱 由离子注入参考物质确定相对灵敏度因子GB/T 24580-2009 重掺n型硅衬底中硼沾污的二次离子质谱检测方法20251838-Z-491 表面化学分析 二次离子质谱 质量分辨测量方法GB/T 22572-2008 表面化学分析二次离子质谱用多δ层参考物质评估深度分辨参数的方法DB53/T 421-2012 工业硅中硼的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法

相关服务热线： 如需《GB/T 20176-2006》相关的服务，可直接联系。 微析检测业务区域覆盖全国，专注为高分子材料、金属、半导体、汽车、医疗器械等行业提供大型仪器测试、性能测试、成分检测等服务。