平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶
基础信息
标准号:YS/T 719-2009
发布日期:2009-12-04
实施日期:2010-06-01
制修订:制定
中国标准分类号:H63
国际标准分类号:77.150.99
技术归口:全国有色金属标准化技术委员会
批准发布部门:工业和信息化部
行业分类:无
标准类别:无
备案信息
备案号:28132-2010
备案日期:2014-12-26
备案公告:2010年第4号(总第124号)
起草单位
利达光电股份有限公司
起草人
李智超、杨太礼 等
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