硅片局部平整度非接触式标准测试方法
Standard test methods for measuring site flatness on silicon wafers by noncontact scanning
基础信息
标准号：GB/T 19922-2005发布日期：2005-09-19实施日期：2006-04-01上次复审日期：2023-12-28上次复审结论：继续有效标准类别：方法中国标准分类号：H17国际标准分类号：77.040.01 归口单位：工业和信息化部（电子）执行单位：工业和信息化部（电子）主管部门：工业和信息化部（电子）
起草单位
洛阳单晶硅有限责任公司
相近标准(计划)
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