国标依据

国标依据

服务热线:

表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度

Surface chemical analysis—Secondary-ion mass spectrometry—Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials

国家标准 推荐性

基础信息

标准号:GB/T 20176-2025发布日期:2025-06-30实施日期:2026-01-01全部代替标准:GB/T 20176-2006标准类别:方法中国标准分类号:G 04国际标准分类号:71.040.40 归口单位:全国表面化学分析标准化技术委员会执行单位:全国表面化学分析标准化技术委员会主管部门:中国科学院

采标情况

本标准等同采用ISO国际标准:ISO 14237:2010。采标中文名称:表面化学分析二次离子质谱用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度。

起草单位

清华大学中国人民公安大学中国矿业大学(北京)北京大学

起草人

李展平郭冲刘婕刘兆伦马静怡张硕吴美璇和平王富芳孙令辉李芹周凌刘可心

相近标准(计划)

GB/T 20176-2006 表面化学分析二次离子质谱用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度SJ/T 11493-2015 硅衬底中氮浓度的二次离子质谱测量方法GB/T 40109-2021 表面化学分析 二次离子质谱 硅中硼深度剖析方法SJ/T 11498-2015 重掺硅衬底中氧浓度的二次离子质谱测量方法GB/T 32495-2016 表面化学分析二次离子质谱硅中砷的深度剖析方法20253640-T-491 表面化学分析 二次离子质谱 由离子注入参考物质确定相对灵敏度因子GB/T 24580-2009 重掺n型硅衬底中硼沾污的二次离子质谱检测方法20251838-Z-491 表面化学分析 二次离子质谱 质量分辨测量方法GB/T 22572-2008 表面化学分析二次离子质谱用多δ层参考物质评估深度分辨参数的方法DB53/T 421-2012 工业硅中硼的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法

相关服务热线: 如需《GB/T 20176-2025》相关的服务,可直接联系。 微析检测业务区域覆盖全国,专注为高分子材料、金属、半导体、汽车、医疗器械等行业提供大型仪器测试、性能测试、成分检测等服务。

热门服务

关于微析院所

ABOUT US WEIXI

微析·国内大型研究型检测中心

微析研究所总部位于北京,拥有数家国内检测、检验(监理)、认证、研发中心,1家欧洲(荷兰)检验、检测、认证机构,以及19家国内分支机构。微析研究所拥有35000+平方米检测实验室,超过2000人的技术服务团队。

业务领域覆盖全国,专注为高分子材料、金属、半导体、汽车、医疗器械等行业提供大型仪器测试(光谱、能谱、质谱、色谱、核磁、元素、离子等测试服务)、性能测试、成分检测等服务;致力于化学材料、生物医药、医疗器械、半导体材料、新能源、汽车等领域的专业研究,为相关企事业单位提供专业的技术服务。

微析研究所是先进材料科学、环境环保、生物医药研发及CMC药学研究、一般消费品质量服务、化妆品研究服务、工业品服务和工程质量保证服务的全球检验检测认证 (TIC)服务提供者。微析研究所提供超过25万种分析方法的组合,为客户实现产品或组织的安全性、合规性、适用性以及持续性的综合检测评价服务。

十多年的专业技术积累

十多年的专业技术积累

服务众多客户解决技术难题

服务众多客户解决技术难题

每年出具十余万+份技术报告

每年出具十余万+份报告

2500+名专业技术人员

2500+名专业技术人员

微析·国内大型研究型检测中心
首页 领域 范围 电话