国标依据

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硅片氧沉淀特性的测试 间隙氧含量减少法

Test method for oxygen precipition characteristics of silicon wafers—Interstitial oxygen reduction

国家标准 推荐性

基础信息

标准号:GB/T 19444-2025发布日期:2025-06-30实施日期:2026-01-01全部代替标准:GB/T 19444-2004标准类别:方法中国标准分类号:H 21国际标准分类号:77.040 归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会执行单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会主管部门:国家标准委

起草单位

麦斯克电子材料股份有限公司隆基绿能科技股份有限公司浙江海纳半导体股份有限公司浙江金瑞泓科技股份有限公司上海合晶硅材料股份有限公司浙江中晶科技股份有限公司内蒙古中环晶体材料有限公司山东有研艾斯半导体材料有限公司杭州中欣晶圆半导体股份有限公司浙大宁波理工学院

起草人

方丽霞陈卫群寇文辉王新社肖世豪朱晓彤尚海波章金兵姚献朋黄笑容郭红强刘丽娟张海英王江华

相近标准(计划)

SJ/T 10627-1995 通过测量间隙氧含量的减少表征硅片氧沉淀特性的方法GB/T 19444-2004 硅片氧沉淀特性的测定间隙氧含量减少法SJ/T 11491-2015 短基线红外吸收光谱法测量硅中间隙氧含量SJ/T 10625-1995 锗单晶中间隙氧含量的红外吸收测量方法SJ/T 11495-2015 硅中间隙氧的转换因子指南SJ/T 11552-2015 以布鲁斯特角入设P偏振辐射红外吸收光谱法测量硅中间隙氧含量GB/T 1557-2018 硅晶体中间隙氧含量的红外吸收测量方法GB/T 43598-2023 纳米技术 石墨烯粉体氧含量和碳氧比的测定X射线光电子能谱法GB/T 32281-2015 太阳能级硅片和硅料中氧、碳、硼和磷量的测定二次离子质谱法GB/T 14144-2009 硅晶体中间隙氧含量径向变化测量方法

相关服务热线: 如需《GB/T 19444-2025》相关的服务,可直接联系。 微析检测业务区域覆盖全国,专注为高分子材料、金属、半导体、汽车、医疗器械等行业提供大型仪器测试、性能测试、成分检测等服务。

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微析研究所是先进材料科学、环境环保、生物医药研发及CMC药学研究、一般消费品质量服务、化妆品研究服务、工业品服务和工程质量保证服务的全球检验检测认证 (TIC)服务提供者。微析研究所提供超过25万种分析方法的组合,为客户实现产品或组织的安全性、合规性、适用性以及持续性的综合检测评价服务。

十多年的专业技术积累

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服务众多客户解决技术难题

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每年出具十余万+份技术报告

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2500+名专业技术人员

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