表面化学分析 溅射深度剖析 用层状膜系为参考物质的优化方法
Surface chemical analysis—Sputter depth profiling—Optimization using layered systems as reference materials
基础信息
标准号:GB/T 20175-2025发布日期:2025-06-30实施日期:2026-01-01全部代替标准:GB/T 20175-2006标准类别:方法中国标准分类号:G 04国际标准分类号:71.040.40 归口单位:全国表面化学分析标准化技术委员会执行单位:全国表面化学分析标准化技术委员会主管部门:中国科学院
采标情况
本标准等同采用ISO国际标准:ISO 14606:2022。采标中文名称:表面化学分析 溅射深度剖析 用层状膜系为参考物质的优化方法。
起草单位
清华大学中国人民公安大学中山大学中国矿业大学(北京)北京大学中国工程物理研究院材料研究所
起草人
李展平郭冲满瀚泽孙令辉马静怡周凌伏晓国章宇娟刘婕徐建业李芹胡小康陈建
相近标准(计划)
GB/T 20175-2006 表面化学分析 溅射深度剖析 用层状膜系为参考物质的优化方法20253642-T-491 表面化学分析 深度剖析 溅射深度测量GB/T 29557-2013 表面化学分析深度剖析溅射深度测量20240152-T-469 表面化学分析深度剖析AES和XPS深度剖析时离子束对准方法及其束流或束流密度的测量方法GB/T 41064-2021 表面化学分析 深度剖析 用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中深度剖析溅射速率的方法GB/T 32999-2016 表面化学分析深度剖析用机械轮廓仪栅网复型法测量溅射速率20240005-T-469 表面化学分析深度剖析中能离子散射术对硅基底上纳米尺度重金属氧化物薄膜的无损深度剖析GB/T 34326-2017 表面化学分析 深度剖析 AES和XPS深度剖析时离子束对准方法及其束流或束流密度测量方法GB/T 40109-2021 表面化学分析 二次离子质谱 硅中硼深度剖析方法GB/T 32495-2016 表面化学分析二次离子质谱硅中砷的深度剖析方法
相关服务热线: 如需《GB/T 20175-2025》相关的服务,可直接联系。 微析检测业务区域覆盖全国,专注为高分子材料、金属、半导体、汽车、医疗器械等行业提供大型仪器测试、性能测试、成分检测等服务。
热门服务