碳化硅外延片表面缺陷的测试 激光散射法
Test method for surface defects on silicon carbide epitaxial wafers—Laser scattering method
基础信息
标准号:GB/T 42902-2023发布日期:2023-08-06实施日期:2024-03-01标准类别:方法中国标准分类号:H21国际标准分类号:77.040 归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会执行单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会主管部门:国家标准委
起草单位
安徽长飞先进半导体有限公司安徽芯乐半导体有限公司浙江芯科半导体有限公司中国科学院半导体研究所广东天域半导体股份有限公司南京国盛电子有限公司河北普兴电子科技股份有限公司
起草人
钮应喜袁松仇光寅李京波杨龙闫果果张会娟刘敏彭铁坤袁肇耿
相近标准(计划)
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