国标依据

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硅外延用三氯氢硅

Trichlorosilane for silicon epitaxial

国家标准 推荐性

基础信息

标准号:GB/T 30652-2023发布日期:2023-08-06实施日期:2024-03-01全部代替标准:GB/T 30652-2014标准类别:产品中国标准分类号:H83国际标准分类号:29.045 归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会执行单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会主管部门:国家标准委

起草单位

洛阳中硅高科技有限公司上海亿钶气体有限公司唐山三孚电子材料有限公司上海晶盟硅材料有限公司陕西有色天宏瑞科硅材料有限责任公司宜昌南玻硅材料有限公司昊华气体有限公司青海中航硅材料有限公司江西晨光新材料股份有限公司有色金属技术经济研究院有限责任公司南京国盛电子有限公司上海新昇半导体科技有限公司新疆大全新能源股份有限公司武汉新硅科技潜江有限公司中电晶华(天津)半导体材料有限公司新疆新特新能材料检测中心有限公司沁阳国顺硅源光电气体有限公司

起草人

万烨赵雄张园园李素青冯永平孙任靖于生海邓远红刘文明李明达边红利史隽涛严大洲刘见华李建新李飞明张斌顾广安徐岩李楷东付梦月邱艳梅梁秋鸿

相近标准(计划)

20240139-T-469 硅外延用三氯氢硅中杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法YS/T 1059-2015 硅外延用三氯氢硅中总碳的测定 气相色谱法YS/T 1060-2015 硅外延用三氯氢硅中其他氯硅烷含量的测定 气相色谱法GB/T 29056-2012 硅外延用三氯氢硅化学分析方法 硼、铝、磷、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、钼、砷和锑量的测定 电感耦合等离子体质谱法HG/T 4683-2014 三氯氢硅泄漏的处理处置方法GB/T 28654-2018 工业三氯氢硅YS/T 1740-2025 电子级三氯氢硅的化学气相沉积评价方法DB53/T 499-2013 多晶硅用三氯氢硅DB53/T 500-2013 多晶硅用三氯氢硅组分含量测定 气相色谱法DB53/T 501-2013 多晶硅用三氯氢硅杂质元素含量测定 电感耦合等离子体质谱法

相关服务热线: 如需《GB/T 30652-2023》相关的服务,可直接联系。 微析检测业务区域覆盖全国,专注为高分子材料、金属、半导体、汽车、医疗器械等行业提供大型仪器测试、性能测试、成分检测等服务。

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微析研究所是先进材料科学、环境环保、生物医药研发及CMC药学研究、一般消费品质量服务、化妆品研究服务、工业品服务和工程质量保证服务的全球检验检测认证 (TIC)服务提供者。微析研究所提供超过25万种分析方法的组合,为客户实现产品或组织的安全性、合规性、适用性以及持续性的综合检测评价服务。

十多年的专业技术积累

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服务众多客户解决技术难题

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每年出具十余万+份技术报告

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2500+名专业技术人员

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