硅片流动图形缺陷的检测 腐蚀法
Test method for flow pattern defects in silicon wafer—Etching technique
基础信息
标准号:GB/T 43315-2023发布日期:2023-11-27实施日期:2024-06-01标准类别:方法中国标准分类号:H21国际标准分类号:77.040 归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会执行单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会主管部门:国家标准委
起草单位
中环领先(徐州)半导体材料有限公司中环领先半导体材料有限公司厦门万明电子有限公司浙江金瑞泓科技股份有限公司浙江旭盛电子有限公司山东有研半导体材料有限公司浙江海纳半导体股份有限公司有色金属技术经济研究院有限责任公司麦斯克电子材料股份有限公司
起草人
朱志高陈俊宏李素青朱晓彤潘金平张海英陈跃骅黄景明陈凤林高海棠由佰玲吕莹胡晓亮方丽霞
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