国标依据

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直写成像式曝光设备

Direct writing imaging exposure equipment

国家标准 推荐性

基础信息

标准号:GB/T 43725-2024发布日期:2024-03-15实施日期:2024-10-01标准类别:产品中国标准分类号:L97国际标准分类号:31.260 归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会执行单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会主管部门:国家标准委

起草单位

合肥芯碁微电子装备股份有限公司安徽省工业和信息化研究院四创电子股份有限公司合肥矽迈微电子科技有限公司深圳拜波赫技术有限公司广州兴森快捷电路科技有限公司深南电路股份有限公司中国电子技术标准化研究院深圳市克洛诺斯科技有限公司

起草人

何少锋陈新沈桂珍朱颖曲鲁杰许静平陆培良吴怡然李香滨严孝年李照辉吴新民邱醒亚乔书晓陈黎阳方林陈东崔良端曹可慰赵俊莎鲁男李娜

相近标准(计划)

YY/T 0796.1-2010 医用电气设备 数字X射线成像系统的曝光指数 第1部分:普通X射线摄影的定义和要求YY/T 1766.4—2024 X射线计算机体层摄影设备图像质量评价方法 第4部分:自动曝光控制下的成像性能评价YY/T 1542-2017 数字化医用X射线设备自动曝光控制评价方法20252490-T-604 再制造静电成像办公设备20231852-T-464 放射性核素成像设备 性能和试验规则 第1部分:正电子发射断层成像装置YY/T 1719-2023 正电子发射断层成像及磁共振成像设备通用技术要求20231803-T-464 放射性核素成像设备 性能和试验规则 第2部分:平面、全身、断层成像伽玛照相机GB/T 20224-2006 数码照相机曝光指数、ISO感光度值、标准输出灵敏度和推荐曝光指数的确定HG/T 2761-1996 已曝光胶卷识别JB/T 5196-1991 摄影闪光曝光表

相关服务热线: 如需《GB/T 43725-2024》相关的服务,可直接联系。 微析检测业务区域覆盖全国,专注为高分子材料、金属、半导体、汽车、医疗器械等行业提供大型仪器测试、性能测试、成分检测等服务。

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微析研究所总部位于北京,拥有数家国内检测、检验(监理)、认证、研发中心,1家欧洲(荷兰)检验、检测、认证机构,以及19家国内分支机构。微析研究所拥有35000+平方米检测实验室,超过2000人的技术服务团队。

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微析研究所是先进材料科学、环境环保、生物医药研发及CMC药学研究、一般消费品质量服务、化妆品研究服务、工业品服务和工程质量保证服务的全球检验检测认证 (TIC)服务提供者。微析研究所提供超过25万种分析方法的组合,为客户实现产品或组织的安全性、合规性、适用性以及持续性的综合检测评价服务。

十多年的专业技术积累

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服务众多客户解决技术难题

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每年出具十余万+份技术报告

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2500+名专业技术人员

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