国标依据

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光学系统波前像差的测定 夏克-哈特曼光电测量法

Determination of wavefront aberration in optical systems—Electro-optical Shack-Hartmann method

国家标准 推荐性

基础信息

标准号:GB/T 44221-2024发布日期:2024-07-24实施日期:2025-02-01标准类别:方法中国标准分类号:L50国际标准分类号:17.180.99 归口单位:全国光电测量标准化技术委员会执行单位:全国光电测量标准化技术委员会主管部门:中国科学院

起草单位

中国科学院苏州生物医学工程技术研究所中国标准化研究院中国科学院长春光学精密机械与物理研究所中国计量科学研究院浙江舜宇光学有限公司苏州一光仪器有限公司中国科学院光电技术研究所中国科学院空天信息创新研究院苏州慧利仪器有限责任公司长春奥普光电技术股份有限公司成都科奥达光电技术有限公司舟山市质量技术监督检测研究院

起草人

史国华邢利娜蔡建奇王璞洪宝玉冯长有谢桂华伍开军何益杨金生刘春雨韩森包明帝叶虹沈晨雁郝华东

相近标准(计划)

20252507-T-604 光学系统 参数的测定GB/T 41869.2-2022 光学和光子学 微透镜阵列 第2部分:波前像差的测试方法GB/T 44078-2024 光电系统中光学中心间距的测定低相干干涉测量法GB/T 10987-2009 光学系统参数的测定GB/T 18904.5-2003 半导体器件第12-5部分:光电子器件纤维光学系统或子系统用带/不带尾纤的pin光电二极管空白详细规范GB/T 27667-2011 光学系统像质评价畸变的测定GB/T 12832-2008 橡胶结晶效应的测定硬度测量法20252506-T-604 光学系统像质测试方法GB/T 18904.2-2002 半导体器件第12-2部分:光电子器件纤维光学系统或子系统用带尾纤的激光二极管模块空白详细规范GB/T 18904.4-2002 半导体器件第12-4部分:光电子器件纤维光学系统或子系统用带/不带尾纤的Pin-FET模块空白详细规范

相关服务热线: 如需《GB/T 44221-2024》相关的服务,可直接联系。 微析检测业务区域覆盖全国,专注为高分子材料、金属、半导体、汽车、医疗器械等行业提供大型仪器测试、性能测试、成分检测等服务。

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