微机电系统(MEMS)技术 MEMS膜残余应力的晶圆曲率和悬臂梁挠度试验方法
Micro-electromechanical systems (MEMS) technology—Wafer curvature and cantilever beam deflection test methods for determining residual stresses of MEMS films
基础信息
标准号:GB/T 44517-2024发布日期:2024-09-29实施日期:2025-04-01标准类别:方法中国标准分类号:L59国际标准分类号:31.080.99 归口单位:全国微机电技术标准化技术委员会执行单位:全国微机电技术标准化技术委员会主管部门:国家标准委
采标情况
本标准等同采用IEC国际标准:IEC 62047-16:2015。采标中文名称:半导体器件 微机电器件 第16部分:MEMS膜残余应力试验方法 晶圆曲率和悬臂梁挠度试验方法。
起草单位
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起草人
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