国标依据

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集成电路三维封装 带凸点圆片减薄工艺过程和评价要求

Integrated circuit 3D packaging—Requirement for bumping-wafer-thining process and evaluation

国家标准 推荐性

基础信息

标准号:GB/T 44791-2024发布日期:2024-10-26实施日期:2025-05-01标准类别:基础中国标准分类号:L55国际标准分类号:31.200 归口单位:全国集成电路标准化技术委员会执行单位:全国集成电路标准化技术委员会主管部门:工业和信息化部(电子)

起草单位

中国电子科技集团公司第五十八研究所神州龙芯智能科技有限公司

起草人

袁世伟王波黄海林肖隆腾肖汉武王燕婷陈明敏

相近标准(计划)

GB/T 44796-2024 集成电路三维封装 带凸点圆片划片工艺过程和评价要求GB/T 44775-2024 集成电路三维封装 芯片叠层工艺过程和评价要求GB/Z 43510-2023 集成电路TSV三维封装可靠性试验方法指南20233861-T-339 半导体集成电路封装术语YD/T 4269-2023 IP网络带内操作、管理和维护(IOAM)数据内容和封装方法

相关服务热线: 如需《GB/T 44791-2024》相关的服务,可直接联系。 微析检测业务区域覆盖全国,专注为高分子材料、金属、半导体、汽车、医疗器械等行业提供大型仪器测试、性能测试、成分检测等服务。

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十多年的专业技术积累

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服务众多客户解决技术难题

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每年出具十余万+份技术报告

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