硅片表面薄膜厚度的测试 光学反射法

基础信息

标准号：GB/T 40279-2021发布日期：2021-08-20实施日期：2022-03-01标准类别：方法中国标准分类号：H21国际标准分类号：77.040 归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会执行单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会主管部门：国家标准委

起草单位

有研半导体材料有限公司浙江金瑞泓科技股份有限公司中环领先半导体材料有限公司麦斯克电子材料股份有限公司开化县检验检测研究院山东有研半导体材料有限公司优尼康科技有限公司浙江海纳半导体有限公司翌颖科技（上海）有限公司

起草人

徐继平宁永铎张海英由佰玲胡晓亮张雪囡卢立延孙燕潘金平李扬楼春兰盘健冰

相近标准(计划)

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