表面化学分析 深度剖析 用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中深度剖析溅射速率的方法
Surface chemical analysis—Depth profiling—Method for sputter rate determination in X-ray photoelectron spectroscopy, Auger electron spectroscopy and secondary-ion mass spectrometry sputter depth profiling using single and multi-layer thin films
基础信息
标准号：GB/T 41064-2021发布日期：2021-12-31实施日期：2022-07-01标准类别：方法中国标准分类号：G04国际标准分类号：71.040.40 归口单位：全国表面化学分析标准化技术委员会执行单位：全国表面化学分析标准化技术委员会主管部门：中国科学院
采标情况
本标准等同采用ISO国际标准：ISO 17109:2015。采标中文名称:表面化学分析 深度剖析 用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中深度剖析溅射速率的方法。
起草单位
清华大学中国石油大学（北京）
起草人
姚文清段建霞李展平徐同广杨立平王雅君王岩华
相近标准(计划)
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