硅片表面金属元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
Test method for the content of surface metal elements on silicon wafers—Inductively coupled plasma mass spectrometry
基础信息
标准号:GB/T 39145-2020发布日期:2020-10-11实施日期:2021-09-01标准类别:方法中国标准分类号:H17国际标准分类号:77.040 归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会执行单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会主管部门:国家标准委
起草单位
南京国盛电子有限公司浙江金瑞泓科技股份有限公司有色金属技术经济研究院龙腾半导体有限公司有研半导体材料有限公司上海合晶硅材料有限公司无锡华瑛微电子技术有限公司厦门科鑫电子有限公司
起草人
骆红潘文宾张海英徐新华李素青马林宝赵而敬孙燕温子瑛胡金枝李俊需
相近标准(计划)
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