国标依据

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掩模缺陷检查系统灵敏度分析所用的特制缺陷掩模和评估测量方法准则

Guideline for programmed defect masks and benchmark procedures for sensitivity analysisof mask defect inspection systems

国家标准 推荐性

基础信息

标准号:GB/T 17866-1999发布日期:1999-09-13实施日期:2000-06-01上次复审日期:2016-12-31上次复审结论:继续有效标准类别:方法中国标准分类号:L56国际标准分类号:31.200 归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会执行单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会主管部门:国家标准委

采标情况

本标准等同采用其他国际标准:SEMI P23:1993。采标中文名称:。

起草单位

中国科学院微电子中心

相近标准(计划)

GB/T 16880-1997 光掩模缺陷分类和尺寸定义的准则GB/T 16879-1997 掩模曝光系统精密度和准确度的表示准则SJ/T 31080-2016 光掩模制作用图形发生器完好要求和检查评定方法20231600-T-469 消费品缺陷工程分析 危险温度点测量方法GB/T 15871-1995 硬面光掩模基板DL/T 5251—2024 水工混凝土建筑物缺陷检测和评估技术规程SJ/T 11863-2022 单片超大尺寸掩模板装载盒规范SJ/T 10274-1991 掩模对准曝光机测试方法GB/T 16524-1996 光掩模对准标记规范SJ/T 11516-2015 薄膜晶体管(TFT)用掩模版规范

相关服务热线: 如需《GB/T 17866-1999》相关的服务,可直接联系。 微析检测业务区域覆盖全国,专注为高分子材料、金属、半导体、汽车、医疗器械等行业提供大型仪器测试、性能测试、成分检测等服务。

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十多年的专业技术积累

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服务众多客户解决技术难题

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每年出具十余万+份技术报告

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