掩模缺陷检查系统灵敏度分析所用的特制缺陷掩模和评估测量方法准则
Guideline for programmed defect masks and benchmark procedures for sensitivity analysisof mask defect inspection systems
基础信息
标准号:GB/T 17866-1999发布日期:1999-09-13实施日期:2000-06-01上次复审日期:2016-12-31上次复审结论:继续有效标准类别:方法中国标准分类号:L56国际标准分类号:31.200 归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会执行单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会主管部门:国家标准委
采标情况
本标准等同采用其他国际标准:SEMI P23:1993。采标中文名称:。
起草单位
中国科学院微电子中心
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