物理气相沉积TiN薄膜技术条件
Specifications of physical vapour deposition TiN films
基础信息
标准号:GB/T 18682-2002发布日期:2002-03-10实施日期:2002-08-01上次复审日期:2023-12-28上次复审结论:继续有效标准类别:基础中国标准分类号:A29国际标准分类号:25.220.20 归口单位:全国金属与非金属覆盖层标准化技术委员会执行单位:全国金属与非金属覆盖层标准化技术委员会主管部门:中国机械工业联合会
起草单位
武汉材料保护研究所
相近标准(计划)
JB/T 8554-1997 气相沉积薄膜与基体附着力的划痕试验法JB/T 6067-1992 气相防锈塑料薄膜技术条件GB/T 43602-2023 物理气相沉积多层硬质涂层的成分、结构及性能评价20250577-T-469 化学气相沉积用硅喷射管GB/T 31566-2015 金属覆盖层物理气相沉积铝涂层技术规范与检测方法GB/T 42352-2023 金属覆盖层 钢铁上物理气相沉积镉涂层 技术规范与试验方法YS/T 1031-2015 化学气相沉积炉YS/T 1655-2023 化学气相沉积硫化锌晶体20242893-T-604 银氧化锡电触头材料技术条件20242495-T-418 海洋沉积物中正构烷烃的测定 气相色谱-质谱法
相关服务热线: 如需《GB/T 18682-2002》相关的服务,可直接联系。 微析检测业务区域覆盖全国,专注为高分子材料、金属、半导体、汽车、医疗器械等行业提供大型仪器测试、性能测试、成分检测等服务。
热门服务