国标依据

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表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定

Surface chemical analysis―Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy

国家标准 推荐性

基础信息

标准号:GB/T 30701-2014发布日期:2014-03-27实施日期:2014-12-01上次复审日期:2016-12-31上次复审结论:继续有效标准类别:方法中国标准分类号:G04国际标准分类号:71.040.40 归口单位:全国表面化学分析标准化技术委员会执行单位:全国表面化学分析标准化技术委员会主管部门:中国科学院

采标情况

本标准等同采用ISO国际标准:ISO 17331:2004。采标中文名称:表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定。

起草单位

中国计量科学研究院

起草人

王海宋小平冯流星王梅玲高思田

相近标准(计划)

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