国标依据

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掺硼掺磷掺砷硅单晶电阻率与掺杂剂浓度换算规程

Practice for conversion between resistivity and dopant density for boron-doped, phosphorus-doped, and arsenic-doped silicon

国家标准 推荐性

基础信息

标准号:GB/T 13389-2014发布日期:2014-12-31实施日期:2015-09-01上次复审日期:2016-12-31上次复审结论:废止全部代替标准:GB/T 13389-1992标准类别:方法中国标准分类号:H80国际标准分类号:29.045 归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会执行单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会主管部门:国家标准委

起草单位

有研半导体材料股份有限公司中国计量科学研究院杭州海纳半导体有限公司西安隆基硅材料股份有限公司四川新光硅业科技有限责任公司浙江省硅材料质量检验中心浙江金瑞泓科技股份有限公司

起草人

孙燕梁洪张静王飞尧高英楼春兰

相近标准(计划)

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相关服务热线: 如需《GB/T 13389-2014》相关的服务,可直接联系。 微析检测业务区域覆盖全国,专注为高分子材料、金属、半导体、汽车、医疗器械等行业提供大型仪器测试、性能测试、成分检测等服务。

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十多年的专业技术积累

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服务众多客户解决技术难题

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每年出具十余万+份技术报告

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2500+名专业技术人员

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