工业硅化学分析方法 第4部分：杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法
Methods for chemical analysis of silicon metal―Part 4：Determination of impurity contents―Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method
基础信息
标准号：GB/T 14849.4-2014发布日期：2014-12-05实施日期：2015-08-01上次复审日期：2016-12-31上次复审结论：继续有效全部代替标准：GB/T 14849.4-2008标准类别：方法中国标准分类号：H12国际标准分类号：77.120.10 归口单位：全国有色金属标准化技术委员会执行单位：全国有色金属标准化技术委员会轻金属分会主管部门：中国有色金属工业协会
起草单位
昆明冶金研究院昆明冶研新材料股份有限公司中国铝业股份有限公司郑州研究院云南出入境检验检疫局技术中心等
起草人
刘维理王劲榕杨毅李跃平赵德平
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